洛伦兹电镜技术（Lorentz Transmission Electron Microscopy, Lorentz TEM）是一种特殊的电子显微镜技术，能够在低能量电子束的作用下观察材料的磁性和电性特性。与传统的透射电子显微镜（Transmission Electron Microscopy, TEM）相比，洛伦兹电镜具有独特的优势，特别是在研究磁性材料和纳米结构方面。
CEAM检测中心的透射电子显微镜（Talos F200X G2）配备了Super-X EDS 采用对称性的SDD无窗能谱探头、压电陶瓷台、Ceta 16M像素CMOS相机、STEM采集图像探头等附件，可观察纳米尺度下物质的明暗场形貌，分析晶粒界面的成分，表征物相和晶体结构。
该仪器配备的三个STEM探头，分别是高角环形暗场探测器（HAADF）和同轴明场/暗场探测器。同时可实现实时的积分相位衬度像(iDPC)成像功能，可在同一幅STEM图像中同时获取轻重元素的清晰衬度，在电池研究的检测方面有着显著的优势。并且支持在极低束流下，对MOF等电束敏感材料进行低损伤高衬度成像。采用4个对称式能谱探头, 4个无窗设计SDD硅漂移探测器构成完全旋转对称分布设计的多探头系统。可实现对样品极快速精准的EDS的点、线、面分析。
厂家型号：赛默飞 TALOS F200XG2技术参数：· X-FEG亮度：1.8×109A/cm2srad(200kV)；· 束斑电流：1.5nA@1nm束斑（200kV)；· TEM信息分辨：0.12nm；· STEM HAADF 分辨率：0.16nm；· EDX立体角：0.9srad；· 能量分辨率：Mn-Ka和10kcps时≤136eV(输出)；· 快速EDS面分析：像素驻留时间短至10us；· 最大衍射角：24°；· 双倾样品杆的最大倾斜角度：±35°a倾角/±30°β倾角。本篇文章将带你探讨洛伦兹电镜的基本原理、技术特点、成像模式以及应用领域等。带你全面了解CEAM检测分心中心配备的这台透射电子显微镜（Talos F200X G2）所具备的功能技术。
基本原理
电子的波动性
电子作为一种粒子，具有波动性。当其通过电场和磁场时，其波动行为会受到影响。这为洛伦兹电镜的设计和应用提供了基础。
洛伦兹力
洛伦兹力是指带电粒子在电场和磁场中所受到的力。其表达式为：[ F = q( v ×B) ]其中，( F ) 为洛伦兹力，( q ) 为电荷，( v ) 为粒子速度，( B ) 为磁场强度。这一原理是洛伦兹电镜的核心，利用电子束在磁场中的偏转实现成像。
磁场成像
在洛伦兹电镜中，样品通常放置在一个外加磁场中。当电子束通过样品时，样品的磁性区域会导致电子束的偏转，从而形成不同的对比度。这种成像技术能够揭示材料内部的磁性结构。
技术特点
低能量电子束
洛伦兹电镜使用的电子束能量相对较低（通常在几十到几百千电子伏特），这使得其能够在较低的样品损伤和较高的对比度下进行成像。
磁性成像能力
洛伦兹电镜特别适合用于研究磁性材料的微观结构，包括磁畴、磁壁等。这为材料科学和物理学的研究提供了重要工具。
高分辨率
虽然洛伦兹电镜的分辨率受到电子束能量的限制，但在某些情况下能够达到亚纳米级别的分辨率，尤其是在观察局部磁性特征时。
成像模式
菲涅尔（Fresnel）模式
菲涅尔成像是在于通过调节物镜焦距，形成样品的离焦像，从而实现对磁畴结构的观察。在该成像模式下，磁畴壁呈现为明暗交替的线条，其中明线代表电子会聚区域，暗线则表示电子发散区域。
傅科（Foucault）模式
傅科模式是在于通过精确控制物镜光阑位置来阻挡衍射图样中的特定分裂斑点，从而实现磁畴的可视化成像。在成像过程中，物镜必须保持聚焦状态，而对比度则源于畴内磁化方向的差异。
差分相衬(DPC)成像
差分相衬(DPC)核心原理是通过远场分段探测器来测量局部洛伦兹偏转。这种技术的独特之处在于能够通过四分之一探测器的差分信号，直接量化洛伦兹偏转βL的两个分量，从而实现高分辨率的定量成像。
应用领域
磁性材料研究
洛伦兹电镜在磁性材料的研究中具有重要意义，能够观察磁畴的形成、演变以及其对材料性能的影响。例如，在铁磁材料中，研究人员可以使用洛伦兹电镜观察不同温度和外部磁场下的磁畴变化。
纳米技术
在纳米科技领域，洛伦兹电镜可以用于观察纳米粒子、纳米线等结构的磁性特性，揭示其在不同条件下的行为。这对于开发新型纳米材料至关重要。
生物材料研究
在生物材料研究中，洛伦兹电镜可以用于观察生物分子在外部磁场中的行为，为生物物理学提供新的视角。
洛伦兹电镜技术作为一种先进的成像工具，正在为材料科学、物理学和生物科学等领域带来新的机遇。通过深入理解其工作原理和应用潜力，研究人员能够更好地利用这一技术为科学研究和技术创新服务。