超高纯度：达到99.99%（4N），为您的薄膜制备提供最纯净的基础。
卓越电导率：优化电导率，确保薄膜设备的高效运行。
优化载流子迁移率：实现更快的电子与空穴移动，适合高频、高速半导体应用。
完美晶体结构：减少缺陷，提升薄膜质量。